Trung Quốc Tạo Ra Laser DUV Bán Dẫn 'Đột Phá' Cho Sản Xuất Chip

Các nhà nghiên cứu từ Viện Khoa học Trung Quốc (CAS) vừa công bố một thành tựu "đột phá": tạo ra một laser DUV (tia cực tím sâu) bán dẫn, có khả năng phát ra ánh sáng 193nm, một bước sóng quan trọng trong công nghệ quang khắc để sản xuất chip.

Nga Khởi Động Dự Án Máy Chế Tạo Vi Mạch Độc Lập, Thách Thức ASML?

Nga đang dấn thân vào cuộc đua công nghệ bán dẫn với kế hoạch đầy tham vọng: tự phát triển máy khắc lithography, công nghệ cốt lõi trong sản xuất chip hiện đại. Khác biệt so với hệ thống 13.5 nm của ASML (nhà sản xuất hàng đầu thế giới), máy khắc của Nga sử dụng laser 11.2 nm, hứa hẹn độ phân giải cao hơn 20% và chi phí sản xuất thấp hơn.

Các nhà nghiên cứu Hàn Quốc đã sản xuất hàng loạt vật liệu tổng hợp MXene có thể được sử dụng trong thiết kế vi xử lý trong tương lai

Các nhà nghiên cứu tại Viện Khoa học và Công nghệ Hàn Quốc (KIST) đã sản xuất hàng loạt một vật liệu tổng hợp có thể được sử dụng trực tiếp trong thiết kế vi xử lý trong tương lai. Nhóm nghiên cứu do Seung-Cheol Lee dẫn đầu đã giải quyết được trở ngại cuối cùng đối với việc sản xuất hàng loạt một hợp chất tổng hợp được gọi là MXene, cho phép thiết kế các đặc tính điện tử của vật liệu (và các đặc tính khác) ở cấp độ nguyên tử. Trở ngại đó là gì? Các vấn đề sản xuất lâu đời của Kiểm soát Chất lượng và năng suất.

Trung Quốc Tạo Ra Laser DUV Bán Dẫn 'Đột Phá' Cho Sản Xuất Chip

Các nhà nghiên cứu từ Viện Khoa học Trung Quốc (CAS) vừa công bố một thành tựu "đột phá": tạo ra một laser DUV (tia cực tím sâu) bán dẫn, có khả năng phát ra ánh sáng 193nm, một bước sóng quan trọng trong công nghệ quang khắc để sản xuất chip.

Nga Khởi Động Dự Án Máy Chế Tạo Vi Mạch Độc Lập, Thách Thức ASML?

Nga đang dấn thân vào cuộc đua công nghệ bán dẫn với kế hoạch đầy tham vọng: tự phát triển máy khắc lithography, công nghệ cốt lõi trong sản xuất chip hiện đại. Khác biệt so với hệ thống 13.5 nm của ASML (nhà sản xuất hàng đầu thế giới), máy khắc của Nga sử dụng laser 11.2 nm, hứa hẹn độ phân giải cao hơn 20% và chi phí sản xuất thấp hơn.

Các nhà nghiên cứu Hàn Quốc đã sản xuất hàng loạt vật liệu tổng hợp MXene có thể được sử dụng trong thiết kế vi xử lý trong tương lai

Các nhà nghiên cứu tại Viện Khoa học và Công nghệ Hàn Quốc (KIST) đã sản xuất hàng loạt một vật liệu tổng hợp có thể được sử dụng trực tiếp trong thiết kế vi xử lý trong tương lai. Nhóm nghiên cứu do Seung-Cheol Lee dẫn đầu đã giải quyết được trở ngại cuối cùng đối với việc sản xuất hàng loạt một hợp chất tổng hợp được gọi là MXene, cho phép thiết kế các đặc tính điện tử của vật liệu (và các đặc tính khác) ở cấp độ nguyên tử. Trở ngại đó là gì? Các vấn đề sản xuất lâu đời của Kiểm soát Chất lượng và năng suất.